抛光机在工作的过程之中，比较重要的就是它的抛光速率能够以一个较快的速度除去磨光过程中所产生的损伤层，而且要使得抛光损伤层不会影响到观察到的组织，也就是不会造成假组。，前者要求其要使用比较粗糙的磨料来保证它的抛光速率比较大，能够充分的除掉磨光的损伤层，但是由于损伤层也比较深，而后者则要求其使用比较细致的材料，使得损伤层比较浅，但是抛光速率比较低，接下来小编就跟大家谈一谈抛光机的工作原理，帮助大家能够解决这个矛盾。

       实际上如果想要解决以上这个矛盾，就是将抛光机分为两个阶段来进行粗抛的目的是去除掉磨光损伤成为这一个阶段，就要使得设备有较高的抛光速率出包所形成的表层损伤，实际上是一个次要的考虑因素，当然也要尽可能地将其降低到一个比较小的程度，其次就是精抛，它的目的是为了去除在前一个阶段中所产生的表层损伤的现象，使得抛光的损伤降低到一定的程度，抛光机在工作的过程之中，样品磨面跟抛光盘一般是平行状态，并且均匀地倾压在抛光盘之上的，注意要防止样品飞出去，并且由于压力太大从而出现新的划痕，同时还要使的样品在自转并沿着转盘方向来回进行移动，这是为了避免抛光组织局部损伤过快。

       在抛光过程中工作人员要不断的添加悬浮液，使得抛光物品维持在一定的湿度，而湿度太大，不仅会降低抛光的磨损作用，而且使得样品中风险跟非金属夹杂物以及铸铁中的石墨在尾的现象，当湿度过小的时候，会因为摩擦生热使得样品升温润滑的作用会减小，使得摩擦的液面失去光泽，甚至会出现黑斑。

       为了达到粗抛的目的，要求转盘转速较低，尽量不要超过600r/min；抛光时间应当比去掉划痕所需的时间长些，因为还要去掉变形层。粗抛后磨面光滑，但黯淡无光，在显微镜下观察有均匀细致的磨痕，有待精抛消除。

       精抛时转盘速度可适当提高，抛光时间以抛掉粗抛的损伤层为宜。精抛后磨面明亮如镜，在显微镜明视场条件下看不到划痕，但在相衬照明条件下则仍可见到磨痕。抛光机抛光质量的好坏严重影响试样的组织结构，已逐步引起有关专家的重视。